Ferroelectric thin films: Review of materials, properties, and applications

N. Setter(École Polytechnique Fédérale de Lausanne), S. K. Streiffer(Argonne National Laboratory), D. V. Taylor(École Polytechnique Fédérale de Lausanne), Seungbum Hong(Korea Advanced Institute of Science and Technology), G. B. Stephenson(Argonne National Laboratory), H. Kohlstedt(Forschungszentrum Jülich), Spartak Gevorgian(Ericsson (Sweden)), Dragan Damjanović(École Polytechnique Fédérale de Lausanne), Lukas M. Eng(Technische Universität Dresden), N. Y. Park(Samsung (South Korea)), Tomoaki Yamada(École Polytechnique Fédérale de Lausanne), A. I. Kingon(North Carolina State University), A. K. Taganstev(École Polytechnique Fédérale de Lausanne), I. Stolitchnov(École Polytechnique Fédérale de Lausanne), Glen R. Fox(Eltron Research)
Journal of Applied Physics
September 1, 2006
Cited by 1,877


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